半導體工藝廣泛應用于集成電路、光伏發電、芯片生產等，是高科技電子發展的主力軍。制造芯片的過程十分復雜，關鍵的步驟是沉積、光刻膠涂覆、刻蝕、離子注入和封裝。而這些步驟都離不開超純水，因為芯片生產過程需要超純水進行清洗。半導體超純水系統是工業水處理系統中設計施工最為復雜，材料選擇最為講究，運行控制最為精密的系統，包括了眾多的子系統，功能單元及配套系統，所以半導體超純水的制備過程可以用“千錘百煉”來形容。
半導體芯片用水主要在于前端晶棒硅切片冷卻用水，基板晶圓片檢測清洗用水，中段晶圓片濺鍍、曝光、電鍍、光刻、腐蝕等工藝清洗，后段檢測封裝清洗。
了解詳情太陽能光伏產業主要生產集中在多晶硅提純、拉單晶、多晶硅鑄錠、太陽能電池片等，這些生產工藝中主要動力需求包括：超純水，電源，特氣。
了解詳情光電光學玻璃行業的超純水設備主要是為玻璃清洗時給超聲波提供超純水。
了解詳情液晶面板生產大約50%以上工序中硅片與超純水直接接觸，有80%以上工序需要進行化學處理，而化學處理又與超純水有密切關系，并且直接與工件接觸，如果水質不純，就會導致器件性能下降，影響產品性能，進而影響了產品的良率。
了解詳情作為電解液的重要成分，水在電池中起著至關重要的作用，一般情況下的水中含有鈣鎂離子，固體顆粒、膠狀物質等導電物質，會縮短蓄電池的使用壽命，也不符合國家有關電池用水的標準規范，所以需要水質高的超純水作為電池電解液。
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